TENDENCIAS SUBLIMADAS CON EPSON EN LA SEMANA DE LA MODA DE NUEVA YORK
Las más originales colecciones elaboradas con
tecnología de sublimación Epson, estuvieron presentes durante la Semana de la
Moda de Nueva York.
Epson, líder mundial en impresión e imagen digital,
presentó durante la Semana de la Moda de Nueva York, el evento más prestigioso
de moda a nivel mundial, con “Digital Couture Project-Epson New York Fashion Week”,
una iniciativa original que integra “moda” y “tecnología”.
La compañía llevó a cabo una propuesta innovadora y
fashion, seleccionando a 11
diseñadores de las Américas dispuestos a incursionar en una revolución
tecnológica en sus colecciones, mediante el uso de la tecnología de sublimación
digital para crear nuevos estilos e hitos en la moda.
El evento se llevó a cabo en “Industria Superstudios”,
un mítico estudio neoyorkino referente de creatividad, moda y fashion trends, y contó con la presencia
de miembros destacados de la prensa internacional, élite del mundo de la moda,
farándula y socialité neoyorquino. Los asistentes
fueron testigos del despliegue de las pasarelas nutridas con diseños que
desafían los estándares y buscan la oportunidad de imponerse como la nueva
tendencia que marcará el presente de la moda durante el 2015.
Los asistentes pudieron disfrutar de una velada
deslumbrante, con modelos que vistieron las colecciones de diseñadores de Brasil,
México, Colombia, Perú, Argentina, Chile, Costa Rica, Ecuador y los Estados
Unidos. Dichas colecciones inspiradas en el futuro del fashion y la sublimación
digital, fueron elaboradas con diversos materiales donde se incluyeron piezas
sublimadas con las impresoras SureColor Serie F de Epson.
“La moda se
construye sobre tendencias, y la tecnología, desde hace años, es una tendencia
en sí misma. Los diseñadores que participaron de este ambicioso proyecto
demostraron que, con la tecnología de sublimación, la versatilidad en el diseño
y la calidad de los colores y detalles en las prendas están al nivel de Alta
Costura” comentó Agustín Chacón,Vice President, LatinSubsidiary Sales and
Operations de Epson.
Los diseñadores y/o marcas de diseño que participaron
en “Digital Couture Project” presentando sus colecciones sublimadas en Nueva
York fueron: Pilar Briceño de Colombia, Dual de Costa Rica, Ay NotDead de
Argentina, Moah Saldaña de Perú, Marco Antonio Farías de Chile, María Elisa
Guillén de Ecuador, Pineda Covalin de México, Mariana Morrell de Brasil, Leonor
Silva representando al Caribe (Venezuela/Miami), Maggie Barry de EEUU Costa
Oeste y ESOSA de EEUU Costa Este.
“La propuesta
de Epson tuvo como objetivo demostrar que la sinergia entre moda y tecnología
abre las puertas tanto a emprendedores como a diseñadores ya establecidos, a
una nueva oportunidad creativa y funcional, con el respaldo que ofrece la
calidad de sus productos. Y el resultado de este proyecto demuestra que se ha
logrado”, concluyó Chacón.
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